隨著電子信息產業的飛速發展，薄膜科學應用日益廣泛。濺射法是制備薄膜材料的主要技術之一，濺射沉積薄膜的源材料即為靶材。用靶材濺射沉積的薄膜致密度高，附著性好。靶材的性能要求與制備工藝，凱澤金屬通過10多年的鈦靶、鋯靶、鎳靶等靶材生產經驗，結合相關行業資料，整理如下：
1、靶材的性能要求
靶材制約著濺鍍薄膜的物理、力學性能，影響鍍膜質量，因而靶材質量評價較為嚴格，主要應滿足如下要求；
1)雜質含量低，純度高。靶材的純度影響薄膜的均勻性。
2)高致密度。高致密度靶材具有導電、導熱性好、強度高等優點，使用這種靶材鍍膜，濺射功率小，成膜速率高，薄膜不易開裂，靶材使用壽命長，而且濺鍍薄膜的電阻率低，透光率高。
3)成分與組織結構均勻。靶材成分均勻是鍍膜質量穩定的重要保證。
4)晶粒尺寸細小。靶的晶粒尺寸越細小，濺鍍薄膜的厚度分布越均勻，濺射速率越快。正因為靶材在性能上有上述諸多特殊要求，導致其制備工藝較為復雜。
2、靶材的制備工藝
目前制備靶材的方法主要有鑄造法和粉末冶金法。
鑄造法；將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金熔液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經機械加工制成靶材。鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。其優點是靶材雜質含量(特別是氣體雜質含量)低，密度高，可大型化；缺點是對熔點和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。
粉末冶金法；將一定成分配比的合金原料熔煉，澆注成鑄錠后再粉碎，將粉碎形成的粉末經等靜壓成形，再高溫燒結，最終形成靶材。粉末冶金法的優點是靶材成分均勻；缺點是密度低，雜質含量高等。常用的粉末冶金工藝包括冷壓、真空熱壓和熱等靜壓等。
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